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等離子源科技 等離子源科技

等離子源科技

Plasma Sources Science & Technology

出版商:IOP Publishing Ltd.

出版語言:English

出版地區:ENGLAND

出版周期:Bimonthly

ISSN:0963-0252

E-ISSN:1361-6595

創刊時間:1992

是否OA:未開放

是否預警:否

大類學科:物理與天體物理

小類學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS

年發文量:242

研究類文章占比:99.17%

Gold OA文章占比:26.54%

收稿方向:物理-物理:流體與等離子體
學術咨詢:預計審稿周期: 約6.0個月   影響因子:3.3  CiteScore:7.1

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期刊簡介

等離子體源科學與技術 (PSST) 報告了在各種氣壓和等離子體密度范圍內運行的低溫等離子體和電離氣體,這些氣體具有不同的電離程度。PSST 的重點是這些等離子體的基礎科學、它們的來源以及由它們引發或維持的物理和化學過程,這些過程通過理論、計算或實驗技術闡明。PSST 還報告了研究低溫等離子體所需的新的實驗或理論得出的基礎數據(例如截面、傳輸系數)。與這些等離子體的技術和應用相關的報告應與等離子體狀態下發生的科學和基本過程緊密相關。

等離子源科技創刊于1992年,由IOP Publishing Ltd.出版社出版。其研究的主題領域包括但不限于物理-物理:流體與等離子體,是一本在物理與天體物理領域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個子領域,旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。

根據最新的數據,等離子源科技的影響因子為3.3,CiteScore為7.1,h-index為94,SJR為0.771,SNIP為1.373,中科院分區為2區,這些指標均顯示了該期刊在物理與天體物理領域的優秀地位。

該刊以English作為出版語言。對于English非母語的作者,期刊建議使用語言編輯服務,以確保文稿的語法和拼寫錯誤得到糾正,并符合科學English的標準。如果想實現快速順利的投稿發表,建議您聯系本站的客服團隊,將為您提供專業的選刊建議,并在整個投稿過程中提供細致的指導。

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期刊數據

期刊評價指數報告
年發文量報告

*期刊發文量是一個量化的指標,用于衡量期刊的出版活動和學術影響力。

*綜述文章是一種特定的學術文體,專門用來回顧和總結某一領域或主題的現有研究成果和理論進展。

*發文量和綜述量都在學術出版中都扮演著重要的角色,但關注的焦點和目的不同。

期刊評價

CiteScore(2024年最新版)
  • CiteScore:7.1
  • SJR:0.771
  • SNIP:1.373
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 74 / 434

83%

中科院分區 2023年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區
中科院分區 2022年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 1區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區
中科院分區 2021年12月舊的升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區
中科院分區 2021年12月基礎版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理 2區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區
中科院分區 2021年12月升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 1區
中科院分區 2020年12月舊的升級版
大類學科 分區 小類學科 分區 Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 2區

*中科院期刊分區表是中國科研界廣泛認可的期刊評價體系,是由中國科學院文獻情報中心科學計量中心編制的一套期刊評價體系,在中國的科研界具有較高的認可度和影響力,常被用作科研項目評審、職稱評定、學術評價等方面的參考依據。

JCR分區(2023-2024年最新版)
按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.3%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 6 / 40

86.25%

期刊常見問題

Plasma Sources Science & Technology期刊的學術評價如何?

該期刊是一本由IOP Publishing Ltd.出版社出版的學術期刊,屬于JCR分區中學科領域的區,學科領域的區,學科領域的區期刊,中科院分區為物理與天體物理學科領域2區。該期刊的ISSN為0963-0252,近一年未被列入預警期刊名單,是一本國際優秀期刊。

該期刊收稿方向是什么?

該期刊涉及的研究領域是物理-物理:流體與等離子體,在中科院分區表中大類學科為IOP Publishing Ltd.,小類學科為IOP Publishing Ltd.,在準備向該期刊投稿時,請確保您的研究內容與期刊的研究領域緊密相關至關重要。

該期刊近幾年影響因子高嗎?審稿周期長嗎?

Plasma Sources Science & Technology期刊2023年的影響因子是3.3,2022年的影響因子是3.8,該期刊審稿周期預計需要約 約6.0個月 ,為了確保您的投稿過程順利進行,請合理規劃時間投稿。

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免責聲明

若用戶需要出版服務,請聯系出版商:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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